公开/公告号CN101493656B
专利类型发明专利
公开/公告日2010-12-08
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN200910008166.7
申请日2005-11-08
分类号
代理机构中国专利代理(香港)有限公司;
代理人刘宗杰
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:05:35
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-12-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20101208 终止日期:20151108 申请日:20051108
专利权的终止
2010-12-08
授权
授权
2009-09-23
实质审查的生效
实质审查的生效
2009-07-29
公开
公开
机译: 曝光条件设定方法,基板处理装置及计算机程序
机译: 曝光条件设定方法,基板处理装置及计算机程序
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