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薄膜成膜方法、薄膜成膜装置和薄膜成膜过程的监视方法

摘要

在将含有单体气体和氧化性反应气体的混合气体等离子化,在基材的表面上形成氧化物组成的薄膜的薄膜成膜方法中,具有一边使所述的单体气体与所述的反应气体的供给流量比发生变化,使所述的供给流量比至少包括特定范围,一边将混合气体等离子化的特征。采用这种薄膜成膜方法和成膜装置,能够没有波动和稳定地形成具有气体阻挡性等性能的薄膜。而且,本发明还提供了一种监视方法,其特征在于,在使薄膜成膜之际测定从等离子放出的氢α射线和氧射线的强度,将各强度与可以得到所需膜质的薄膜时各射线的标准强度作对比,判定是否使所需膜质的薄膜成膜。利用所述的监视方法和薄膜成膜装置,能够在过程中判断成膜的薄膜是否具有所需的膜质。

著录项

  • 公开/公告号CN101230452B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2010-12-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 凸版印刷株式会社;

    申请/专利号CN200710308101.5

  • 发明设计人 挂村敏明;鹿岛浩人;十野学;

    申请日2003-09-26

  • 分类号C23C16/04(20060101);C23C16/52(20060101);

  • 代理机构72003 隆天国际知识产权代理有限公司;

  • 代理人高龙鑫

  • 地址 日本东京都台东区

  • 入库时间 2022-08-23 09:05:27

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2010-12-08

    授权

    授权

  • 2008-09-24

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2008-07-30

    公开

    公开

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