氟代环烯烃聚合物及在深紫外类光刻胶中的应用

摘要

本发明涉及到单体、聚合物以及由此制备的适用于深紫外光源、尤其是ArF光源的光刻工艺光刻胶，又称光致抗蚀剂。本发明中新型的聚合物包括共聚物和三聚物，具体可用化学结构式1表示。