法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2014-08-27
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G06F 17/30 授权公告日:20100811 终止日期:20130704 申请日:20080704
专利权的终止
2010-08-11
授权
授权
2009-02-11
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-12-17
公开
公开
机译: 用于光刻技术的基于金刚石的监测设备,以及一种包括基于金刚石的监测设备的光刻设备
机译: 用于光刻技术的基于金刚石的监测设备,以及一种包括基于金刚石的监测设备的光刻设备
机译: 用于基于导管的瓣环成形术的方法和设备技术领域本发明总体上涉及一种用于治疗二尖瓣功能不全例如二尖瓣渗漏的技术。更具体地,本发明是以微创方式,用于治疗二尖瓣膜漏的系统和方法。