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小作用力电化学机械处理方法和设备

摘要

本发明涉及半导体集成电路技术,并公开了一种电化学机械处理系统,用于将所加的力均匀分布到工件表面。该系统包括工件托架,用于定位或固定工件表面和工件-表面-作用装置(WSID)。采用WSID将所加的力均匀分布到工件表面上,并且WSID包括各种膜层,这些膜层用于处理和向工件表面施加均匀而且全程的力。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-09-17

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C25D 5/22 授权公告日:20100714 终止日期:20180927 申请日:20020927

    专利权的终止

  • 2010-07-14

    授权

    授权

  • 2010-07-14

    授权

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  • 2006-01-18

    实质审查的生效

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  • 2006-01-18

    实质审查的生效

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  • 2005-11-23

    公开

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  • 2005-11-23

    公开

    公开

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