基板处理装置及其使用的基板载置台和暴露于等离子体的部件

摘要

本发明提供一种基板载置台，包括：在内部埋设有加热器并且其表面成为被处理基板的加热面的基板载置台主体；以及在基板载置台主体中能够上下自由移动地插通的升降销，其中，基板载置台主体在其加热面形成有与升降销相对应并且底面比加热面低的的凹部，升降销具有升降销主体以及在升降销主体的顶端部与凹部对应形成的能够部分地收容在凹部中且直径比升降销主体的直径大的头部，头部具有支撑被处理基板的头部上端以及与头部上端相对的头部下表面，升降销能够在头部下表面与凹部的底面接合的第一状态以及头部下表面从凹部的底面上升的第二状态之间自由移动。