光学式关键尺寸量测准确度的改善系统及其方法

摘要

一种光学式关键尺寸量测准确度的改善系统及其方法。该方法包含：找出一工艺参数；找出该薄膜的折射率以及消光系数分别为该工艺参数的函数；在回归模拟时，利用该工艺参数经由所述函数调整该薄膜的折射率以及消光系数；借着取得该工艺参数的一最佳值完成该光学式关键尺寸量测，其中该最佳值极小化了实验光谱与其理论预测之间的差异。该系统包含：用以找出上述工艺参数的找出手段；用以找出所述函数的找出手段；利用该工艺参数经由所述函数调整该薄膜的折射率以及消光系数的调整手段；以及完成该光学式关键尺寸量测的完成手段。藉由工艺参数以在回归模拟时调整晶圆基板上薄膜的折射率/消光系数(n/k)值，以降低关键尺寸量测的误差。