法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-05-23
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C01F 7/00 授权公告日:20100324 终止日期:20110314 申请日:20080314
专利权的终止
2010-03-24
授权
授权
2008-10-15
实质审查的生效
实质审查的生效
2008-08-20
公开
公开
机译: 水滑石基化合物中至少有一种硅,磷和硼基聚氧酸阴离子,以及至少一种其他阴离子作为部分和/或所有插层阴离子,其生产,用于农膜和农用膜的红外吸收剂避难所
机译: 其中一些或全部层间阴离子保留至少一种硅基,磷基和硼基多聚含氧离子和其他阴离子的水滑石基化合物,其制备方法和农用膜均使用红外吸收剂和农用膜包含红外线吸收剂
机译: 三磷酸腺苷插层水滑石膜及其制备方法