公开/公告号CN111978178B
专利类型发明专利
公开/公告日2023.03.28
原文格式PDF
申请/专利权人 润泰化学(泰兴)有限公司;
申请/专利号CN202010722245.0
申请日2020.07.24
分类号C07C67/08;C07C69/08;C07C69/16;C07C69/28;C07C69/003;A01C1/06;A01N25/00;C05G3/00;C09D125/14;C09D131/04;C09D129/04;C09D7/63;
代理机构常州智慧腾达专利代理事务所(普通合伙);
代理人曹军
地址 225400 江苏省泰州市泰兴经济开发区文化西路17号
入库时间 2023-04-14 18:15:54
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2023-03-28
授权
发明专利权授予
机译: 成膜组合物,抗蚀剂底层膜,成膜方法,形成抗蚀剂图案的方法,形成有机底层膜反向图案的方法,制备成膜组合物的方法,以及形成含金属膜图案的方法
机译: 成膜材料,用于光刻的成膜组合物,光学部件形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,用于抗蚀剂的永久膜,辐射敏感性组合物,非晶膜的制造方法,用于光刻的下层膜形成材料,用于光刻的下层成膜组合物,用于光刻的下层膜的制造方法和电路图案形成方法
机译: 成膜材料,光刻技术,成膜材料,光学成分形成材料,抗蚀剂组合物,抗蚀剂图案形成方法,抗蚀剂永久膜,放射线敏感性组合物,非晶膜制造方法,光刻法成膜下层膜形成成分,光刻层膜生产方法和电路图形形成方法