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具有改善的边缘场的多头屏蔽梯度线圈

摘要

提供了一种成像系统(2),包括初级梯度线圈组件(52)和屏蔽线圈组件(42)。所述屏蔽线圈组件(42)与所述初级梯度线圈组件(52)串联。所述屏蔽线圈组件(42)包括第一梯度屏蔽线圈(82)和第二梯度屏蔽线圈(84)。所述第二梯度屏蔽线圈(84)与所述第一梯度屏蔽线圈(82)并联。

著录项

  • 公开/公告号CN100571619C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-12-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 GE医药系统环球科技公司;

    申请/专利号CN200410049098.6

  • 发明设计人 克里斯托弗·J·埃文斯;

    申请日2004-06-15

  • 分类号

  • 代理机构北京市柳沈律师事务所;

  • 代理人黄小临

  • 地址 美国威斯康星州

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:32

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-07-31

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):A61B 5/055 授权公告日:20091223 终止日期:20120615 申请日:20040615

    专利权的终止

  • 2009-12-23

    授权

    授权

  • 2006-08-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-02-02

    公开

    公开

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