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雷射引发前向传送(LIFT)沉积设备及方法

摘要

本发明提供一种沉积方法,其中一施体基板(10)与一目标基板(20)相对而配置,该施体基板具有一表面(12),而该表面(12)系面对该目标基板且具备一黏性施体材料(14)。一光束(30)经由该施体基板被导引至该施体材料,以便释放该施体材料且借此朝向该目标基板传送该施体材料作为一喷射。在本文所提供之方法中,一输入信号(DS)被接收,该输入信号(DS)指定了该喷射待呈现之一形状,借由该喷射,该施体材料可被传送且该光束之一能量曲线分布相应地得到控制。另外或替代地,该光束之该能量曲线分布可根据一图案得到控制,该施体材料将根据该图案沉积于该目标基板上。同样地,本发明提供一相应之沉积设备。

著录项

  • 公开/公告号CN111684099B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022.12.30

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 荷兰应用科学研究会(TNO);

    申请/专利号CN201980011867.8

  • 发明设计人 加里·阿鲁季诺夫;

    申请日2019.02.05

  • 分类号C23C14/04;B23K26/02;B23K26/06;C23C14/28;C23C14/54;B23K26/073;B23K26/082;

  • 代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人刘彬

  • 地址 荷兰海牙

  • 入库时间 2023-01-09 21:32:17

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-12-30

    授权

    发明专利权授予

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