公开/公告号CN100559217C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-11-11
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
申请/专利号CN200610079943.3
申请日2006-04-26
分类号G02B5/08(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰维尔德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:03:30
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2009-11-11
授权
授权
2008-07-02
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-11-01
公开
公开
机译: 多层反射镜的光谱再吸收滤光片,具有这种多层反射镜方法的光刻设备,用于增大所需辐射和不希望辐射的比率,以及
机译: 多层光谱纯度滤光片,具有这种光谱纯度滤光片的光刻设备,制造装置的方法以及由此制造的装置
机译: 多层光谱纯度滤光片,包括这种光谱纯度滤光片的光刻设备,器件制造方法和由此制造的器件