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多层反射镜光谱纯滤光片、光刻设备以及装置制造方法

摘要

多层反射镜包括位于多层反射镜顶部的光谱纯度增强层,其比如可用于EUV光刻设备。这个光谱纯度增强层包括第一光谱纯度增强层,但是介于多层反射镜和第一光谱纯度增强层之间可存在有中间层或者第二光谱纯度增强层和中间层。因此,具有下列配置的多层反射镜是可能的:多层反射镜/第一光谱纯度增强层;多层反射镜/中间层/第一光谱纯度增强层;以及多层反射镜/第二光谱纯度增强层/中间层/第一光谱纯度增强层。可提高正入射辐射的光谱纯度,以使DUV辐射的减少相对EUV辐射更强。

著录项

  • 公开/公告号CN100559217C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-11-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN200610079943.3

  • 申请日2006-04-26

  • 分类号G02B5/08(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王波波

  • 地址 荷兰维尔德霍芬

  • 入库时间 2022-08-23 09:03:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-11-11

    授权

    授权

  • 2008-07-02

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-11-01

    公开

    公开

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