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基于超颖表面对衍射级次相位分布与偏振的同时调控方法

摘要

本发明公开的基于超颖表面对衍射级次相位分布与偏振的同时调控方法,属于微纳光学、衍射光学和光场调控应用技术领域。本发明将双相位编码方式引入超颖表面的设计过程中,通过超像素结构实现对出射光束正交偏振通道的复振幅分布进行任意调控;利用梯度下降优化算法生成全息图,结合不同衍射级次所需的琼斯矢量计算得到相应的复振幅分布;根据需要编码的复振幅分布,确定纳米柱单元的几何尺寸,从而生成相应超颖表面结构的加工文件;采用电子束刻蚀的微纳加工工艺加工透射型介质超颖表面;在45°线偏振光入射到超颖表面时,出射光束具有多个衍射级次,并且,不同衍射级次能够携带不同的相位分布与偏振态信息。

著录项

  • 公开/公告号CN114397761B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022.11.25

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 北京理工大学;

    申请/专利号CN202210054080.3

  • 申请日2022.01.18

  • 分类号G02B27/42;G02B27/28;G02B27/00;G02B1/00;G03H1/08;

  • 代理机构北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人邬晓楠

  • 地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号

  • 入库时间 2022-12-29 02:02:05

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