首页> 中国专利> 基于高斯过程大核注意力装置引导的曲面测量方法及装置

基于高斯过程大核注意力装置引导的曲面测量方法及装置

摘要

本发明公开了基于高斯过程大核注意力装置引导的曲面测量方法及装置,依次进行初始点采样、曲面上采样、曲面重建和误差评定、采样点选择,其中曲面上采样由高斯过程模型和基于大核注意力机制的预训练上采样模型组成,通过上述操作获得关键的点云数据,通过这些数据,可以用非常有限的数据完成目标精度的曲面重建;同时,针对高精度接触式形貌测量传感器测量效率较低的问题,通过局域高斯过程和深度学习的上采样模型,进行点云的自适应采样,然后再对这些数据进行重建,可以在保证重建精度和细节还原度的同时提高复杂曲面的测量效率。

著录项

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号