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光学系统透过率检测装置及光学系统透过率检测方法

摘要

本发明提供了一种光学系统透过率检测装置及光学系统透过率检测方法,光学系统透过率检测装置包括光路调整单元、探测光测量单元和参考光测量单元,光路调整单元包括分光镜和反射器,分光镜用于将入射光分为透射的初次探测光和反射的参考光,反射器用于对初次经过待测物镜组件的初次探测光进行反射形成反射探测光,且反射探测光能再次经过待测物镜组件后到达探测光测量单元;探测光测量单元用于检测反射探测光;参考光测量单元用于检测参考光;探测光测量单元和参考光测量单元位于待测物镜组件的同一侧。本发明的技术方案能够集中关键探测部件,优化探测布局,便于实现电气一体化设计,并提高装置的通用性和适用性,以及进一步提高测量精度。

著录项

  • 公开/公告号CN113670860B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022.11.04

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海微电子装备(集团)股份有限公司;

    申请/专利号CN202010368203.1

  • 发明设计人 李天鹏;侯宝路;杨若霁;

    申请日2020.04.30

  • 分类号G01N21/59;G01N21/55;G01M11/02;

  • 代理机构上海思捷知识产权代理有限公司;

  • 代理人王宏婧

  • 地址 201203 上海市浦东新区张东路1525号

  • 入库时间 2022-11-28 17:55:33

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-11-04

    授权

    发明专利权授予

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