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作为空穴传输层的氧化镍修饰的氧化石墨烯纳米复合材料和制造其的方法

摘要

一种方法提供用于光电器件的基于GO:NiOx纳米复合材料的膜。该方法包括通过石墨的氧化来制备在第一醇溶剂中的GO溶液,通过溶剂热方法制备在第二醇溶剂中的NiOx溶液GO,通过将GO溶液和NiOx溶液共混来进行将NiOx修饰到GO纳米片结构(NS)上,以获得:NiOx溶液,和通过使用GO:NiOx溶液来形成基于GO:NiOx纳米复合材料的膜。

著录项

  • 公开/公告号CN111418036B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022.10.21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 香港大学;

    申请/专利号CN201780096839.1

  • 发明设计人 蔡植豪;成佳淇;

    申请日2017.11.14

  • 分类号H01G11/24;H01G11/32;H01L51/00;H01G11/46;

  • 代理机构中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人张萍;杨思捷

  • 地址 中国香港薄扶林道

  • 入库时间 2022-11-28 17:51:11

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