公开/公告号CN100550299C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-10-14
原文格式PDF
申请/专利权人 东京毅力科创株式会社;
申请/专利号CN200580039229.5
申请日2005-11-08
分类号H01L21/027(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人王岳;刘宗杰
地址 日本东京都
入库时间 2022-08-23 09:03:15
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2016-12-28
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 授权公告日:20091014 终止日期:20151108 申请日:20051108
专利权的终止
2009-10-14
授权
授权
2007-12-19
实质审查的生效
实质审查的生效
2007-10-24
公开
公开
机译: 曝光条件设定方法,基板处理装置及计算机程序
机译: 曝光条件设定方法,基板处理装置及计算机程序
机译: 曝光条件设定方法,基板处理装置及计算机程序