用于执行系统缺陷分析的方法和设备

摘要

用于执行系统缺陷分析的方法和设备，包括将电路设计布局形状的正交投影提供在沃尔什图案的基上的方法的设备。基于使用沃尔什图案的布局形状的正交子空间投影的图案匹配系统，执行电路设备布局的初步密度特征提取，允许用户定义图案，以及执行布局的高分辨率搜索，以定位布局的全部实例。生成范围从最接近到数量上较不接近排列的布局窗的排序表。与现有技术相比，图案匹配系统显著地减少了错误的正量，并且使得相同的密度数据能够作为以小增量步进穿过布局的窗被重新使用。