公开/公告号CN113065287B
专利类型发明专利
公开/公告日2022.08.23
原文格式PDF
申请/专利权人 北京理工大学;
申请/专利号CN202110400990.8
申请日2021.04.14
分类号G06F30/27(2020.01);G06N20/00(2019.01);G06F111/08(2020.01);G06F119/14(2020.01);
代理机构北京正阳理工知识产权代理事务所(普通合伙) 11639;
代理人邬晓楠
地址 100081 北京市海淀区中关村南大街5号
入库时间 2022-09-26 23:16:43
机译: 基于空间局部性和表面特征的基于像素值预测的可逆数据隐藏方法一种可逆水印使用的方法及一种用于可逆数据隐藏的方法
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机译: 快速打印近场和隐式光刻特征的方法和设备