SMO技术中选取锚定点最佳光刻偏差的方法

摘要

本发明涉及一种SMO技术中选取锚定点最佳光刻偏差的方法，涉及半导体制造技术，利用虚拟模型对预选锚定点和关键图形进行模拟计算，通过对一系列评价参数进行比较分析，提供对应于光刻锚定点的最佳光刻偏差，从而确定SMO优化方向，提高SMO优化效率，加快SMO优化速度，同时也为SMO输出适合的照明光源形状奠定坚实的基础。