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具有漏光及阴影补偿的均匀性校正系统

摘要

提供一种具有漏光及阴影补偿的均匀性校正系统与方法。该系统包含多校正组件以及一光学补偿板。相邻的校正组件由一间隙相隔开。该光学补偿板包含具有多个间隙补偿区段的一图案。该图案具有一衰减,其与该光学补偿板的其余部分的衰减不相同。在该补偿板上的每一补偿区段的位置对应照明槽缝中相邻校正组件之间的相对应间隙的位置。每一补偿区段的宽度依据入射至该校正系统上的光线的角度而定。该图案可以位于该补偿板的上表面或底表面上。再者,该补偿板可以位于多个校正组件的上方或下方。

著录项

  • 公开/公告号CN100524036C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-08-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;

    申请/专利号CN200510137796.6

  • 发明设计人 罗贝托·B·温纳尔;

    申请日2005-12-28

  • 分类号G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人王波波

  • 地址 荷兰费尔德霍芬

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:57

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-03-14

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20090805 终止日期:20101228 申请日:20051228

    专利权的终止

  • 2009-08-05

    授权

    授权

  • 2006-08-30

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-07-05

    公开

    公开

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