公开/公告号CN100524036C
专利类型发明授权
公开/公告日2009-08-05
原文格式PDF
申请/专利权人 ASML控股股份有限公司;
申请/专利号CN200510137796.6
发明设计人 罗贝托·B·温纳尔;
申请日2005-12-28
分类号G03F7/20(20060101);
代理机构11021 中科专利商标代理有限责任公司;
代理人王波波
地址 荷兰费尔德霍芬
入库时间 2022-08-23 09:02:57
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2012-03-14
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/20 授权公告日:20090805 终止日期:20101228 申请日:20051228
专利权的终止
2009-08-05
授权
授权
2006-08-30
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-07-05
公开
公开
机译: 具有漏光和阴影补偿的均匀性校正系统
机译: 具有漏光和阴影补偿的均匀性校正系统
机译: 具有漏光和阴影补偿的均匀性校正系统