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一种改善体二极管特性的超结器件

摘要

一种改善体二极管特性的超结器件,由下至上具有:金属化漏极、重掺杂第一导电类型半导体衬底、第一导电类型半导体缓冲层及低掺杂第一导电类型半导体缓冲层,第一导电类型半导体外延层和第二导电类型半导体柱构成超结结构,第二导电类型半导体柱向下延伸至低掺杂第一导电类型半导体缓冲层之中且被高掺杂第一导电类型半导体阻挡层所包围,高掺杂第一导电类型半导体阻挡层也位于低掺杂第一导电类型半导体缓冲层之中。本发明在超结柱的底部引入双缓冲层结构和阻挡层结构,有效减慢对漂移区底部的非平衡载流子抽取速度,从而减小器件反向恢复过程中的电流变化率,缓解反向电流的突变,增大了体二极管反向恢复的软度因子,改善器件的EMI特性。

著录项

  • 公开/公告号CN114464672B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-07-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN202210370739.6

  • 发明设计人 杨国江;于世珩;

    申请日2022-04-11

  • 分类号H01L29/06(2006.01);H01L29/78(2006.01);

  • 代理机构南京天翼专利代理有限责任公司 32112;

  • 代理人奚铭

  • 地址 210000 江苏省南京市中国(江苏)自由贸易试验区南京片区研创园腾飞大厦C座13楼

  • 入库时间 2022-08-23 14:00:11

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