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一种考虑涡流分布不均匀性电磁执行器等效磁路建模方法

摘要

本发明的目的在于提供一种考虑涡流分布不均匀性电磁执行器等效磁路建模方法,包括如下步骤:根据电磁执行器的结构进行分区划分A~D,定义各区上第一层和第n层涡电流分别为iR11和iR1n,计算第一层和第n层对应的涡电阻,定义电磁执行器铁芯和衔铁之间气隙部分的等效电流为igk,定义A~D区漏磁部分的等效电感为Lair1~Lair4,计算A~D区相邻两薄层之间的磁链,计算干路电流i,从而得到电磁执行器磁通φ。本发明实现了已有方法无法解决铁芯磁性材料的非线性磁化和磁饱和现象,特别是磁场内涡流效应的考虑。本发明提出的建模方法可以用于电磁执行器动态性能的准确预测。

著录项

  • 公开/公告号CN112084679B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-06-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 哈尔滨工程大学;

    申请/专利号CN202011096156.6

  • 发明设计人 赵建辉;卢相东;

    申请日2020-10-14

  • 分类号G06F30/20;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区南通大街145号哈尔滨工程大学科技处知识产权办公室

  • 入库时间 2022-08-23 13:52:00

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-06-17

    授权

    发明专利权授予

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