首页> 中国专利> 一种双工作台曝光机的曝光方法

一种双工作台曝光机的曝光方法

摘要

一种双工作台曝光机的曝光方法,所述曝光机包括第一工作台和第二工作台,首先对同批次的基板正面曝光:将基板正面向上放置于任一工作台上,曝光机构在基板正面曝光图形,通过背面靶标装置在PCB板背面制作背面对位标记;再对该批次基板反面曝光:将基板背面向上放置于任一工作台上,对位机构抓取背面对位标记,控制机构根据所述背面对位标记的图形确定曝光补偿值,曝光机构根据控制机构确定的曝光补偿值在基板背面曝光图形。通过采用不同的背面对位标记实现反面曝光的精确补偿,使得正反面图形精确对准,满足高精度的应用需求。

著录项

  • 公开/公告号CN112631080B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-31

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州源卓光电科技有限公司;

    申请/专利号CN202011521970.8

  • 发明设计人 肖敏;廖绍良;夏天;张雷;

    申请日2020-12-21

  • 分类号G03F7/20;

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 215026 江苏省苏州市工业园区汀兰巷192号C5幢102室

  • 入库时间 2022-08-23 13:45:01

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-31

    授权

    发明专利权授予

相似文献

  • 专利
  • 中文文献
  • 外文文献
获取专利

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号