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InP基模斑转换器、模斑转换结构及制备方法

摘要

一种InP基模斑转换器、模斑转换结构及制备方法,该InP基模斑转换器,包括:两层或多层不同组分的InxGa1‑xAsyP1‑y层,形成垂直锥形结构,其中,x满足0<x<1,y满足0<y<1,各InxGa1‑xAsyP1‑y层具有沿第一方向渐变的折射率分布,所述第一方向为沿所述模斑转换器的模斑尺寸减小的厚度方向。本发明引入具有渐变折射率分布的模斑转换器,制备高度集成、高转换效率模斑转换器,实现小尺寸高效率的模斑转换,实现紧凑转换波导器件,降低封装成本。

著录项

  • 公开/公告号CN112859239B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 中国科学技术大学;

    申请/专利号CN202110151244.X

  • 发明设计人 王亮;何伟;蒋忠君;张博健;

    申请日2021-02-03

  • 分类号G02B6/14;G02B6/13;

  • 代理机构中科专利商标代理有限责任公司;

  • 代理人吴梦圆

  • 地址 230026 安徽省合肥市包河区金寨路96号

  • 入库时间 2022-08-23 13:39:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-05-17

    授权

    发明专利权授予

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