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使用含碳酸盐的流体的平面化体系与方法

摘要

本发明公开了一种抛光基底层的体系与方法。所披露的方法包括提供抛光装置,该装置用于赋予抛光垫与具有待抛光的第一层的基底之间的相对移动;向基底与抛光垫之间的界面处提供pH为4至11的液体介质,其中液体介质包括含酸和碱中至少一种的pH控制物质、碳酸盐和含至少一种选自氨基酸和聚丙烯酸的稳定剂添加剂;和相对于另一个,移动基底和抛光垫中的至少一个,以抛光基底层。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2012-08-29

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):B24B 37/04 授权公告日:20090715 终止日期:20110622 申请日:20040622

    专利权的终止

  • 2009-07-15

    授权

    授权

  • 2005-06-22

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-04-20

    公开

    公开

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