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一种基于多层二维纳米材料干涉图像的微力测量方法

摘要

本发明公开了一种基于多层二维纳米材料干涉图像的微力测量方法,步骤如下:制备边长为微米级别的多层二维纳米材料;将上述制备好的多层二维纳米材料转移至表面平整的硅衬底上;采用可见光垂直照射上述多层二维纳米材料,并使用光学显微镜进行观察,在多层二维纳米材料上施加外力后,记录形成的干涉图样;测量上述干涉图样的明暗条纹数量,根据干涉条纹产生的条件,计算得到施加外力处多层二维纳米材料的层间距变化,并根据已知的多层二维纳米材料层间范德华相互作用系数,计算得到施加外力大小。本发明方法利用多层二维纳米材料实现高精度力的测量,可以有效降低成本和测量难度,测量条件相对简单。

著录项

  • 公开/公告号CN113252946B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-05-03

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 南京航空航天大学;

    申请/专利号CN202110425224.7

  • 发明设计人 刘汝盟;王立峰;张吉成;

    申请日2021-04-20

  • 分类号G01Q60/24;G01Q30/02;G01L1/24;

  • 代理机构江苏圣典律师事务所;

  • 代理人贺翔

  • 地址 210016 江苏省南京市秦淮区御道街29号

  • 入库时间 2022-08-23 13:34:43

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