法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2011-09-07
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03F 7/039 授权公告日:20090701 终止日期:20100628 申请日:20020628
专利权的终止
2009-07-01
授权
授权
2006-04-26
实质审查的生效
实质审查的生效
2006-03-01
公开
公开
机译: 光刻胶单体及其制造方法,共聚物及其制造方法,光刻胶成分,光刻胶图案形成方法和半导体器件
机译: 光刻胶交联单体,交联剂光刻胶,光刻胶组合物,光刻胶图案形成方法和半导体器件
机译: 光刻胶交联剂,光刻胶组合物,光刻胶图案形成方法和半导体器件