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声反射器、BAW谐振器、栈式晶体滤波器、BAW谐振滤波器和双工器

摘要

本发明涉及一种用于BAW谐振器或栈式晶体滤波器的声反射器,具有恰好一个由λ/4层或3λ/4层形成的层对(LK、HZ),λ是声波的波长,其中每个层对包含具有较低声阻抗的第一种材料的第一层(LK)和具有与此相对较高声阻抗的第二种材料的第二层(HZ),其中较低声阻抗的第一种材料包括低k介质材料(LK),它是由苯环丁烯衍生的,和较高声阻抗的第二种材料包括一种从氮化铝、氮化镓和氧化锌中选出的材料。本发明还涉及具有该声反射器的BAW谐振器、栈式晶体滤波器、BAW谐振滤波器和双工器。本发明的比已知的声反射器生产简单。

著录项

  • 公开/公告号CN100517965C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-07-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 埃普科斯股份有限公司;

    申请/专利号CN02824737.X

  • 发明设计人 R·施特默;

    申请日2002-12-06

  • 分类号H03H9/17(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人吴立明;张志醒

  • 地址 德国慕尼黑

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2013-01-30

    未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H03H 9/17 授权公告日:20090722 终止日期:20111206 申请日:20021206

    专利权的终止

  • 2009-07-22

    授权

    授权

  • 2005-06-01

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2005-03-30

    公开

    公开

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