法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2004-06-02
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
1999-09-08
授权
授权
1996-10-09
公开
公开
1996-02-14
实质审查请求的生效
实质审查请求的生效
机译: 高纯锡的生产方法,高纯锡电解沉积装置和高纯锡
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法
机译: 高纯锆或HA,溅射由高纯锆或AND和使用该靶制成的薄膜的靶,以及高纯锆或HA的生产方法以及高纯锆或HA的粉体的制备方法