Z偏移和不垂直照射产生的掩膜物体的Y移位中的位置校正

摘要

一种光刻投影设备，包括：为提供辐射投影束的辐射系统；为支撑反射构图装置的支撑结构，该构图装置包括图案表面，以及使所述辐射投影束以预定的倾斜角度入射到所述构图装置上以根据需要的图案来构图所述辐射投影束；保持衬底的衬底台；以及为将构图的束投影到衬底的目标部分上的投影系统，其中，该支撑结构和衬底台在第一方向中可以相互移动。其中通过围绕平行于第二方向的轴线旋转衬底、围绕平行于第二方向的轴线旋转构图装置、以及在六个自由度中的至少一个自由度上调节包括在所述投影系统中的镜子的位置中的至少一种方法来校正图案表面在垂直于第一方向和图案表面的所述平面的第二方向中至少一部分的位置的变化。本发明还提供一种器件制造方法。