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防反射膜、防反射膜的制造方法、光学构件及图像显示装置

摘要

本发明提供耐擦伤性优异的防反射膜。其特征在于,在透光性基材(A)的至少一个面上以下述顺序层叠有硬涂层(B)及防反射层(C),构成防反射层(C)的元素至少包含碳及氟,通过X射线光电分光法而测定的防反射层(C)的原子数在与硬涂层(B)相反侧的表面满足下述数学式(1)及(2),并且在距离上述表面的深度为15~30nm的范围内满足下述数学式(3),7≤[(nF/ntotal)×100]≤27 (1);30≤[(nc/ntotal)×100]≤41 (2);[(nF/ntotal)×100]≤0.5 (3);其中,ntotal为碳、氮、氧、硅及氟的原子数的合计,nF为氟原子数,nc为碳原子数。

著录项

  • 公开/公告号CN110895356B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-03-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 日东电工株式会社;

    申请/专利号CN201910758363.4

  • 发明设计人 桥本尚树;茂手木佑辅;济木雄二;

    申请日2019-08-16

  • 分类号G02B1/11(20150101);G02B1/14(20150101);G02F1/1335(20060101);H01L27/32(20060101);

  • 代理机构72002 永新专利商标代理有限公司;

  • 代理人白丽

  • 地址 日本大阪

  • 入库时间 2022-08-23 13:11:17

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