低浓度二氧化氯高效诱导菊花一步成苗的方法

摘要

本发明公开了低浓度二氧化氯高效诱导菊花一步成苗的方法，在菊花培养基中添加低浓度二氧化氯，诱导菊花茎叶与根系同时生长，不需分阶段培养即可完成菊花组织培养；所述的二氧化氯浓度1～20μg/L，所述的培养基含有或不含有外源激素，培养20天即可获得生长健壮且根系发达的菊花植株，移栽成活率达到100%。本发明通过低浓度二氧化氯促进植株生长和生根，在高效诱导菊花高效再生的同时，摆脱了当前组培中对外源激素的依赖，无环境安全性风险，降低生产成本，实现菊花快繁的一步成苗，适用于规模化菊花组培苗的生产，提高产业价值。