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定量分析方法、定量分析程序及荧光X射线分析装置

摘要

本发明提供了一种可高精度的定量分析的方法、定量分析程序以及荧光X射线分析装置。在通过荧光X射线分析装置进行的定量分析方法中,包括以下步骤:取得步骤(S202),在不同的条件下,从包含多个元素的样品中取得至少在第1能量位置具有第1峰的多个光谱;指定步骤(S206),在多个光谱中,指定主光谱、和在第2能量位置具有第2峰的副光谱;第1拟合步骤(S208、S210),对副光谱所包含的所述第1峰进行拟合,计算在所述第1峰的所述第2能量位置处的背景强度;以及第2拟合步骤(S212),对所述主光谱的所述第1峰进行拟合,并且在所计算出的所述背景强度被包含在所述第2能量位置的条件下,对副光谱的所述第2峰进行拟合。

著录项

  • 公开/公告号CN112930478B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社理学;

    申请/专利号CN202080005907.0

  • 发明设计人 田中伸;

    申请日2020-07-10

  • 分类号G01N23/223(20060101);

  • 代理机构11300 北京瑞盟知识产权代理有限公司;

  • 代理人刘昕;孟祥海

  • 地址 日本国东京都昭岛市松原町3丁目9番12号

  • 入库时间 2022-08-23 13:08:38

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