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一种电镀形成微细结构的方法、微细结构以及电子器件

摘要

本申请提供一种在基板上电镀形成微细结构的方法,包括:在基板的表面形成具有N个部分的导电薄膜,其中,所述N个部分位于所述基板的所述表面的不同位置,N为2以上的自然数;在上述导电薄膜的所述N个部分上一次性形成光刻胶图形;以及向上述导电薄膜的第n个部分通电,并以上述第n个部分作为种子层,利用电镀液对上述第n个部分进行电镀,以在上述第n个部分所对应的上述光刻胶图形的开口内部电镀形成第n个金属图形,并且,在对第n个部分进行电镀时,上述导电薄膜的尚未进行电镀的部分与所述电镀液之间不形成电流,其中,n是自然数,且1≦n≦N。根据本申请,能降低制造成本,提高微细结构性能。

著录项

  • 公开/公告号CN110182752B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 上海新微技术研发中心有限公司;

    申请/专利号CN201810153388.7

  • 发明设计人 王诗男;

    申请日2018-02-22

  • 分类号B81C1/00(20060101);

  • 代理机构11535 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙);

  • 代理人刘元霞

  • 地址 201800 上海市嘉定区城北路235号3号楼

  • 入库时间 2022-08-23 13:06:18

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