公开/公告号CN111041413B
专利类型发明专利
公开/公告日2022-02-11
原文格式PDF
申请/专利权人 中国工程物理研究院激光聚变研究中心;
申请/专利号CN201911268270.X
申请日2019-12-11
分类号C23C14/02(20060101);C23C14/08(20060101);C23C14/10(20060101);C23C14/30(20060101);C23C14/54(20060101);G02B1/10(20150101);
代理机构11465 北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人李冉
地址 621900 四川省绵阳市绵山路64号
入库时间 2022-08-23 13:06:08
机译: 磁控溅射源,溅射镀膜系统以及通过提高功率密度来提高镀膜效率的基体镀膜方法
机译: 高反射镜的镀膜方法及镀膜镜
机译: 一种提高镀膜附着力的方法