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切割工艺用保护性涂层剂

摘要

本发明涉及一种用于制备半导体的切割工艺用保护性涂层剂,具体涉及一种切割工艺用保护性涂层剂,其可以被涂布在晶圆等的表面上而在制备工艺中保护晶圆的表面。

著录项

  • 公开/公告号CN111630113B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2022-02-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MTI株式会社;

    申请/专利号CN201980009171.1

  • 发明设计人 吴承灿;金昶圭;

    申请日2019-01-18

  • 分类号C09D4/00(20060101);C09D7/40(20060101);

  • 代理机构11511 北京得信知识产权代理有限公司;

  • 代理人袁伟东

  • 地址 韩国京畿道安山市

  • 入库时间 2022-08-23 13:04:53

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