一种光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法

摘要

本发明提供了一种光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法，属于衍射光栅的制备技术领域，本发明的校正方法首先测量出待刻光栅毛坯的面型误差，然后求得光栅毛坯面型所引起的刻线误差矩阵，并将之写入光栅刻划程序中，最后在光栅刻划时通过微定位控制来校正光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差。本发明的光栅毛坯的面型误差引起的刻线误差的校正方法，对光栅基底的加工质量和镀膜机的尺寸、镀膜机自身均匀性的要求不高，大大降低了光栅刻划毛坯的制作难度和对镀膜机的要求，不受光栅基底的加工水平和镀膜工艺水平的限制，尤其是对于大尺寸光栅而言，更容易获得较高的波前质量。