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用于确定结构的特性的方法和装置、器件制造方法

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例如用x射线或EUV波段中的辐射来照射感兴趣结构(T)，并且通过检测器(19、274、908、1012)检测散射的辐射。处理器(PU)例如通过仿真(S16)辐射与结构的交互并且比较(S17)仿真交互与检测辐射来计算诸如线宽(CD)或覆盖(OV)的特性。该方法被修改(S14a、S15a、S19a)来考虑由检查辐射引起的结构中的改变。这些改变例如可以是材料的收缩或者光学特性的改变。可以在当前观察或先前观察中由检测辐射引起改变。

著录项

公开/公告号CN109073568B

专利类型发明专利
公开/公告日2022-01-11

原文格式PDF
申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;
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申请/专利号CN201780026352.6
发明设计人 P·A·J·廷尼曼斯;S·G·J·马斯杰森;S·B·鲁博尔;林楠;
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申请日2017-04-11
分类号G01N21/95(20060101);G01N21/956(20060101);H01L21/66(20060101);G03F7/20(20060101);
代理机构11256 北京市金杜律师事务所;
代理人王茂华;张昊
地址荷兰维德霍温
入库时间 2022-08-23 13:00:30

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