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无针注射器、借助无针注射器的结束时到达深度的调整方法及无针注射器的射出参数计算程序

摘要

一种将注射目的物质加压、以使被定义为从射出口射出的注射目的物质的压力的该注射目的物质的射出压在加压开始后上升到第1峰值压力之后下降到比该第1峰值压力低的压力、再然后再上升到第2峰值压力的无针注射器,构成为,能够调整加压结束时的对象区域中的注射目的物质的结束时到达深度,以使该结束时到达深度随着第1峰值压力的增加而变深、并且随着从射出压到达第1峰值压力的第1时刻到到达第2峰值压力的第2时刻所需要的峰值间长度变短而变深。通过这样的结构,能够精度良好地调整被射出的注射目的物质的对象区域中的到达深度。

著录项

  • 公开/公告号CN110769877B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 株式会社大赛璐;

    申请/专利号CN201880043773.4

  • 申请日2018-06-27

  • 分类号A61M5/303(20060101);

  • 代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;

  • 代理人朱美红;王丽辉

  • 地址 日本大阪府大阪市

  • 入库时间 2022-08-23 12:56:34

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