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一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用

摘要

本发明涉及一种超深基坑中水平减渗帷幕形成用装置及其应用,该装置包括:至少一个回灌井水驱机构,用于将水灌入基坑底部土层,并形成驱动渗流场,以驱动后续浆液的定向扩散运移;多个回灌井注入机构,用于向土层中灌入浆液;帷幕形成机构,用于向回灌井注入机构中提供浆液;所述的回灌井水驱机构包括内圈回灌井(15),所述的回灌井注入机构包括注入回灌井(23)和中心回灌井,所述的注入回灌井(23)分布在内圈回灌井(15)的外圈,所述的中心回灌井位于内圈回灌井(15)内圈。与现有技术相比,本发明能够实现超深基坑的水平减渗帷幕的形成,对于目前技术无法施作水平帷幕的超深基坑实现良好隔水效果有重大意义。

著录项

  • 公开/公告号CN113047326B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-12-07

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 同济大学;

    申请/专利号CN202110395963.6

  • 申请日2021-04-13

  • 分类号E02D19/16(20060101);C09K17/42(20060101);

  • 代理机构31225 上海科盛知识产权代理有限公司;

  • 代理人蒋亮珠

  • 地址 200092 上海市杨浦区四平路1239号

  • 入库时间 2022-08-23 12:55:06

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