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放射状多支链聚合物及使用该聚合物的多孔膜

摘要

本发明涉及一种新的放射状多支链聚合物。该放射状多支链聚合物包括侧链在至少三个位置键合到其上的中心分子并且具有500~100,000的平均分子量,所述的侧链选自包括聚氧化烯、聚丙烯酸酯、聚酯、聚酰胺及其衍生物的组。该放射状多支链聚合物用于制备低介电绝缘膜,从而提供具有易于控制的微孔的低介电绝缘膜。

著录项

  • 公开/公告号CN100497433C

    专利类型发明授权

  • 公开/公告日2009-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 LG化学株式会社;

    申请/专利号CN200480029766.7

  • 申请日2004-10-08

  • 分类号C08G61/12(20060101);C08J9/00(20060101);C09D171/02(20060101);H01B3/46(20060101);H01B3/18(20060101);

  • 代理机构11225 北京金信立方知识产权代理有限公司;

  • 代理人南霆;朱梅

  • 地址 韩国首尔

  • 入库时间 2022-08-23 09:02:16

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2009-06-10

    授权

    授权

  • 2007-01-17

    实质审查的生效

    实质审查的生效

  • 2006-11-22

    公开

    公开

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