泵浦激光辐射的均匀化

摘要

一种用于产生均匀化的泵浦激光束(15B)的泵浦单元(2)，所述泵浦单元用于激光系统(1)的激光活性介质(13)的光学泵浦，所述泵浦单元包括泵浦激光系统(3)，其中多个激光束(19A，19B，19C，19A'，19B'，19C')叠加成主泵浦激光束(15A)。所述泵浦单元(2)还包括用于使所述主泵浦激光束(15A)均匀化的光学射束成形系统(5)，其中，所述光学射束成形系统(5)具有微透镜装置(7)和光学的光混合元件(9)，所述微透镜装置具有多个透镜(7A)，所述光学的光混合元件用于通过多次反射来引导所述主泵浦激光束(15A)并且用于输出所述均匀化的泵浦激光束(15B)。所述微透镜装置(7)如此布置，使得所述主泵浦将光束(15A)在耦合到所述光学的光混合元件(9)中前辐射穿过所述微透镜装置(7)的多个透镜(7A)。