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一种Spiro-OMeTAD单斜晶体的制备方法

摘要

本发明公开了一种Spiro‑OMeTAD单斜晶体的制备方法,包括以下步骤:选取特殊的溶剂,采用反溶剂气相扩散辅助结晶法诱导Spiro‑OMeTAD结晶,在反溶剂逐渐挥发扩散的作用下,溶液逐渐饱和并伴随Spiro‑OMeTAD单斜晶体析出。通过本发明提供的方法制备出的Spiro‑OMeTAD单斜晶体,具有更高的空间对称性,通过导电性能测试发现其相比于三斜晶体具有更好的导电性能。

著录项

  • 公开/公告号CN113005523B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-23

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN202110204809.6

  • 发明设计人 王杰;贺卿;石东;

    申请日2021-02-24

  • 分类号C30B29/54(20060101);C30B7/00(20060101);

  • 代理机构51229 成都正华专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人李蕊

  • 地址 611731 四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号

  • 入库时间 2022-08-23 12:50:12

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