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纳米多孔铜负载氧化铜纳米片阵列复合材料及其制备方法

摘要

一种纳米多孔铜负载氧化铜纳米片阵列复合材料,由一纳米多孔铜基底及一氧化铜纳米片阵列组成。所述纳米多孔铜基底与所述氧化铜纳米片阵列化学结合在一起,且所述氧化铜纳米片阵列设置在所述纳米多孔铜基底的一个表面。另外,本发明还涉及一种纳米多孔铜负载氧化铜纳米片阵列复合材料的制备方法。

著录项

  • 公开/公告号CN110963523B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-11-05

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201811146610.7

  • 申请日2018-09-29

  • 分类号C01G3/02(20060101);B82Y30/00(20110101);B82Y40/00(20110101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 100084 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室

  • 入库时间 2022-08-23 12:45:21

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