一种PVD镀膜用弧光电子源增强辉光放电表面活化工艺

摘要

一种PVD镀膜用弧光电子源增强辉光放电表面活化工艺：S1.抽真空；S2.供入氩气气压为0.1—1Pa，开启偏压产生氩輝光放电等离子体活化刻蚀；S3.弧光电子源增强清洗：S3‑1.维持氩气压0.1—1Pa，开启弧光电子源主电源，阴极电弧引燃起弧放电，电流20‑100A；开启弧光电子源辅助阳极电源，电流10—80A；调整偏压50—150V及占空比20—80％，清洗活化1‑2min；S3‑2.弧光电子源不变，偏压100V—200V、占空比20—80％，增强离子清洗活化1‑2min；S3‑3.保持弧光电子源不变，调节偏压至150—250V，占空比20—80％，增强离子清洗1‑2min；S3‑4.弧光电子源不变，偏压200‑300V，占空比20—80％，增强离子清洗1‑2min；S3‑5.弧光电子源不变，偏压250—350V，占空比20—80％，增强离子清洗10‑20min；S4.结束。本发明刻蚀活化时间短、能耗低、气体消耗少且能获得优良的洁净光滑表面。