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公开/公告号CN107819033B
专利类型发明专利
公开/公告日2021-10-08
原文格式PDF
申请/专利权人 英飞凌科技股份有限公司;
申请/专利号CN201710826878.4
发明设计人 C.耶格;J.G.拉文;A.菲利波;M.C.赛费尔特;A.韦莱;
申请日2017-09-14
分类号H01L29/739(20060101);H01L21/331(20060101);
代理机构72001 中国专利代理(香港)有限公司;
代理人申屠伟进;杜荔南
地址 德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-12号
入库时间 2022-08-23 12:36:08
机译: dV / dt-具有dV / dt可控性和跨沟槽布置的功率半导体器件
机译: 具有DV / DT可控性和低栅极电荷的功率半导体器件
机译:有用的性质dvenadtsatifaznyh具有受控谐波合奏通常补偿装置传感器,用于六相块
机译:1.2-KV MOS-Bipolar设备中的关闭DV / DT可控性
机译:高性能拓展剂 - 高性能析出劣化装置分离减少型“Adva-Cast”,具有高性能可降解分离型“Adva-Cast”,具有高性能固态分离减少型“Adva-Cast”高成本
机译:具有dI / dt和dV / dt可控性的二极管钳位P阱沟槽IGBT的仿真研究
机译:夹紧装置使功率半导体能够同时进行机械和电气连接。
机译:可逆电化学镜装置:具有增强稳定性的准固态三态可逆电化学镜装置(Adv。Sci。13/2020)
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