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用于光刻的无抖动自适应且鲁棒的剂量控制的方法

摘要

公开了一种用于控制由激光光源生成的辐射的剂量的方法和装置。在一个实施例中,剂量控制器接收输出能量与预期输出能量的偏差的测量或“能量西格玛”,并且接收由正在被处理的物品接收的剂量与期望剂量的误差的标准偏差。能量西格玛与剂量误差的标准偏差的比率被计算,并且激光器控制器基于所计算的比率来调整控制器增益,以便调整由控制器确定的电压并且因而调整输出电压,并且因此调整到物品的剂量。这是对现有技术的改进,在现有技术中,基于向激光器发送电压抖动并且仅在一个频率上将电压抖动与其在能量中的响应相互关联,调整控制器增益。

著录项

  • 公开/公告号CN111095695B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 西默有限公司;

    申请/专利号CN201880059629.X

  • 发明设计人 T·亚加瓦尔;

    申请日2018-09-04

  • 分类号H01S3/13(20060101);H01S3/11(20060101);G03F7/20(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人董莘

  • 地址 美国加利福尼亚州

  • 入库时间 2022-08-23 12:30:34

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