一种基于平面图案化高分子刷的无机二维纳米材料的制备方法

摘要

本发明公开了一种基于平面图案化高分子刷的无机二维纳米材料的制备方法。所述方法包括以下步骤：(1)在光滑平面基底上接ATRP引发剂，然后再通过光诱导SI‑ATRP和光掩板图案化处理相结合的方法，在基底表面生长图案化的双嵌段共聚物刷；(2)将图案化高分子刷泡入多种无机纳米前驱体溶液中0.5‑240小时，通过配位作用和静电作用将无机前驱体选择性装载至嵌段高分子刷的内层特定嵌段层；(3)最后通过原位反应在基底表面制备多种无机二维纳米材料。该方法能够在介观尺度上精确控制材料的尺寸和形貌，并且可以一次加工成型，能适用于制备多种无机二维材料。所制备的无机二维纳米材料可广泛应用于能源、催化、电子和电器领域。