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一种地下连续墙的基坑支护结构及其施工方法

摘要

本发明公开了一种地下连续墙的基坑支护结构,包括连续墙、固定底板、限位块、支撑装置和固定块,所述固定底板中间位置设置有限位块,所述连续墙底端中部设置有限位槽,所述限位块与限位槽相互契合,所述固定底板两侧设置有凹槽,所述固定块安装在凹槽中,所述连续墙的限位槽上端设置有进料孔,所述进料孔与限位孔连接,所述支撑装置包括支撑杆和限位杆,所述限位杆设置在支撑杆一侧,所述限位杆与限位孔相互契合。本发明结构简单,制造方便,成本低,且安装简单快捷,支护性能好,强度高,稳定性强。

著录项

  • 公开/公告号CN110185042B

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-09-17

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910511829.0

  • 发明设计人 刘玉明;涂爱华;桂斌;王欢;

    申请日2019-06-13

  • 分类号E02D17/04(20060101);E02D5/18(20060101);

  • 代理机构11624 北京卓岚智财知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人郭智

  • 地址 441004 湖北省襄阳市高新区长虹北路28号

  • 入库时间 2022-08-23 12:29:41

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